半導体リソグラフィ装置の市場規模・シェア分析 - 成長動向と予測（2024年～2029年）

半導体リソグラフィ装置メーカーは、タイプ（深紫外リソグラフィ、極端紫外リソグラフィ）、アプリケーション（アドバンストパッケージング、MEMSデバイス、LEDデバイス）、地域（北米、欧州、アジア太平洋地域、その他の地域）ごとにセグメント化されています。市場規模および予測は、上記のすべてのセグメントについて金額（米ドル）で提供されます。

半導体露光装置の市場規模

半導体露光装置市場分析

半導体リソグラフィ装置の市場規模は2024年にUSD 26.48 billionと推定され、2029年にはUSD 37.81 billionに達し、予測期間中（2024-2029）に7.38%の年平均成長率で成長すると予測される。

  • 半導体リソグラフィ装置市場は、家電、自動車、その他多くの分野を含む、ほぼすべての分野で広く使用されている半導体デバイスの製造が拡大していることから、成長が見込まれている。スマートデバイスの採用は増加しており、5Gの接続と採用が世界中に広がるにつれて成長すると予想される。GSMAによると、5Gモバイル・ブロードバンド接続は2025年までに11億に達し、5Gの普及は2025年までに世界人口の34%をカバーすると予想されている。
  • 半導体のFAB（製造）コストの50％以上は装置とツールによるものだ。半導体製造プロセスを前進させる装置のひとつがリソグラフィーである。半導体製造には、リソグラフィ装置によって左右される側面がいくつかある。技術的な観点から見ると、歩留まりと欠陥がそのような2つの例である。半導体製造が、どのタイプのリソグラフィ技術を導入するかに多くの焦点を当てているのは、これが主な理由である。
  • 半導体製品の複雑化に伴い、欠陥の種類も複雑化している。しかし、リソグラフィ装置はこの複雑なプロセスに対応するものである。半導体メーカーが次世代先端技術ノードに注力する中、エラーのないリソグラフィ装置の重要性はさらに高まっている。
  • さらに、製造業は最近、5Gの出現とIoT接続デバイスの出現によって著しい成長を遂げており、ワイヤレス制御などの様々なインダストリー4.0アプリケーションに必要な接続が容易になると予想されている。これは特にモバイルツール、機械、ロボットに不可欠であり、予測期間中の市場成長を助けることができる。
  • 複数の業界企業が、幅広いアプリケーションに対応する新しいリソグラフィシステムの提供に注力している。例えば、2022年3月、株式会社ニコンは、ハイエンドモニター、大型テレビ、スマートデバイスなどの付加価値の高いプレミアムディスプレイ用の様々な高精細パネルの生産をサポートする新しいGen 8プレートFPDリソグラフィシステムを発売すると発表した。
  • 半導体産業は最も複雑な産業の1つであり、製造・検査に関わる500以上の工程や様々な製品が存在するだけでなく、不安定な電子市場や予測不可能な需要など、過酷な環境に置かれています。 そのため、製造工程の複雑さにもよりますが、半導体ウェハーの完全な製造・検査だけでも約1,400の工程があります。 このような複雑な工程は、市場の成長にとって特筆すべきハードルとなっている。

半導体リソグラフィ装置産業概要

市場はASML、Veeco、ニコンなど少数のベンダーに集中している。半導体製造の主要装置は基本的に米国と日本の企業が独占している。統合の進展と技術進歩、地政学的なシナリオにより、調査された市場は変動している。また、垂直統合の進展に伴い、収益に起因する投資能力を考慮すると、調査市場の競争激化は今後も続くと予想される。

  • 2022年9月 - キヤノンが半導体露光装置向けソリューションプラットフォーム「Lithography Plus1を発表。キヤノンの半導体露光装置サポートにおける50年以上の経験と膨大なデータをシステムに取り込み、サポート効率を最大化し、最適なシステムプロセスを提案・実現する。
  • 2022年6月 - サムスンとASMLは、High-NA（高開口数）EUVリソグラフィ装置の開発で協力することで合意。次世代High-NA EUVリソグラフィ装置は、旧来のEUVリソグラフィ装置と比較して、より微細な回路を描画することができる。

半導体リソグラフィ装置市場のリーダー

  1. Canon Inc.

  2. Nikon Corporation

  3. ASML Holding NV

  4. Veeco Instruments Inc.​

  5. SÜSS MicroTec SE

  6. *免責事項:主要選手の並び順不同
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半導体リソグラフィ装置市場ニュース

  • 2022年12月 - キヤノン株式会社は、インターポーザーに搭載されるチップレットなどの3Dアドバンストパッケージング向けのi線リソグラフィーステッパーを発売した。FPA-5520iV LF2は、365nmの波長光をベースとし、後工程用に最適化されており、52mm×68mmの単一露光フィールドで0.8ミクロンの解像度を実現する。4ショットモードでは100mm×100mmに拡大。
  • 2022年11月-MEMS、ナノテクノロジー、半導体市場向けにリソグラフィ装置とウェーハボンディングを提供するEVG（EV Group）は、EVG 150自動レジスト処理システムの次世代200mmバージョンを発表し、光リソグラフィソリューションポートフォリオを強化した。

半導体リソグラフィ装置市場レポート-目次

1. 導入

  • 1.1 研究の前提と市場の定義
  • 1.2 研究の範囲

2. 研究方法

3. エグゼクティブサマリー

4. 市場インサイト

  • 4.1 市場概要
  • 4.2 業界の魅力 - ポーターの 5 つの力の分析
    • 4.2.1 サプライヤーの交渉力
    • 4.2.2 買い手の交渉力
    • 4.2.3 新規参入の脅威
    • 4.2.4 代替品の脅威
    • 4.2.5 競争の激しさ
  • 4.3 半導体リソグラフィー装置技術ロードマップ
  • 4.4 マクロ経済動向が市場に与える影響

5. 市場のダイナミクス

  • 5.1 市場の推進要因
    • 5.1.1 電気自動車や先進的なモバイル機器による小型化と機能追加への需要の高まり
    • 5.1.2 最新のリソグラフィーツールを提供する専門機器ベンダーによるイノベーションの拡大
  • 5.2 市場の制約
    • 5.2.1 製造工程におけるパターンの複雑性に関する課題

6. 市場セグメンテーション

  • 6.1 タイプ
    • 6.1.1 深紫外線リソグラフィー (DUV)
    • 6.1.2 極端紫外線リソグラフィー (EUV)
  • 6.2 応用
    • 6.2.1 高度なパッケージング
    • 6.2.2 MEMSデバイス
    • 6.2.3 LEDデバイス
  • 6.3 地理
    • 6.3.1 北米
    • 6.3.2 ヨーロッパ
    • 6.3.3 アジア
    • 6.3.4 オーストラリアとニュージーランド
    • 6.3.5 ラテンアメリカ
    • 6.3.6 中東およびアフリカ

7. 競争環境

  • 7.1 企業プロフィール*
    • 7.1.1 キヤノン株式会社
    • 7.1.2 株式会社ニコン
    • 7.1.3 ASMLホールディングNV
    • 7.1.4 ヴィーコ・インスツルメンツ社
    • 7.1.5 ズースマイクロテックSE
    • 7.1.6 上海マイクロエレクトロニクス設備（グループ）株式会社
    • 7.1.7 EVグループ（EVG）
    • 7.1.8 日本電子株式会社
    • 7.1.9 イノベーションへの道（ルドルフ・テクノロジーズ社）
    • 7.1.10 ニュートロニクス・クインテル社（NXQ）
  • 7.2 ベンダー市場シェア分析

8. 投資分析

9. 市場の未来

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***最終報告書では、アジア、オーストラリア、ニュージーランドは「アジア太平洋地域として、ラテンアメリカ、中東、アフリカは「その他の地域としてまとめて検討される。
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半導体リソグラフィ装置産業セグメント

半導体露光装置の中核は投影装置である。通常は大きなガラス板でできたフォトマスクに、非常に複雑な回路パターンを描くための装置である。そのため、超高性能レンズを用いて回路パターンを縮小し、ウェハと呼ばれるシリコン基板上に露光する。露光装置は乾式と液浸式に大別され、EUV露光装置が最先端とされている。

半導体リソグラフィ装置の市場は、北米、欧州、アジア太平洋地域、その他の地域を含む複数の地域において、先端パッケージング、MEMSデバイス、LEDデバイスを含むさまざまな用途向けの深紫外リソグラフィ（DUV）（ArFi、ArFドライ、KrF、i線）と極端紫外リソグラフィ（EUV）の個別の市場規模を分析することで評価した。また、マクロ経済動向が市場や影響を受けるセグメントに与える影響についても検証しています。また、近い将来の市場の進化に影響を与えそうな促進要因と阻害要因についても論じています。市場規模および予測は、上記の全セグメントについて米ドル換算で提供される。

タイプ 深紫外線リソグラフィー (DUV)
極端紫外線リソグラフィー (EUV)
応用 高度なパッケージング
MEMSデバイス
LEDデバイス
地理 北米
ヨーロッパ
アジア
オーストラリアとニュージーランド
ラテンアメリカ
中東およびアフリカ
タイプ
深紫外線リソグラフィー (DUV)
極端紫外線リソグラフィー (EUV)
応用
高度なパッケージング
MEMSデバイス
LEDデバイス
地理
北米
ヨーロッパ
アジア
オーストラリアとニュージーランド
ラテンアメリカ
中東およびアフリカ
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半導体リソグラフィ装置市場に関する調査FAQ

半導体露光装置の市場規模は？

半導体リソグラフィ装置市場規模は、2024年に264.8億ドルに達し、年平均成長率7.38%で成長し、2029年には378.1億ドルに達すると予測される。

現在の半導体露光装置の市場規模は？

2024年、半導体リソグラフィ装置市場規模は264.8億ドルに達すると予測される。

半導体リソグラフィ装置市場のキープレイヤーは？

半導体露光装置市場では、キヤノン、ニコン、ASML Holding NV、Veeco Instruments Inc.、SÜSS MicroTec SEが主要企業である。

半導体リソグラフィ装置市場で最も成長している地域は？

アジア太平洋地域は、予測期間（2024-2029年）に最も高いCAGRで成長すると推定される。

半導体露光装置市場で最大のシェアを占める地域は？

2024年には、アジア太平洋地域が半導体露光装置市場で最大の市場シェアを占める。

半導体リソグラフィ装置市場は何年をカバーし、2023年の市場規模は？

2023年の半導体リソグラフィ装置市場規模は245.3億米ドルと推定される。本レポートでは、2019年、2020年、2021年、2022年、2023年の半導体リソグラフィ装置市場の過去の市場規模をカバーしています。また、2024年、2025年、2026年、2027年、2028年、2029年の半導体リソグラフィ装置市場規模を予測しています。

半導体リソグラフィ装置市場に参入するための地域的な考慮点は？

半導体リソグラフィ装置市場に参入するために考慮すべき地域は、a) 政府政策の評価 b) 地域のチップ製造拠点 c) 潜在的な貿易障壁である。

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世界の半導体リソグラフィ装置市場は、先進的なモバイル機器や電気自動車における小型化・高機能化への需要の高まりに牽引され、大きな成長を遂げている。この成長は、新しい半導体技術の急速な発展と、自動車、家電、通信を含む様々なエンドユーザー産業における半導体リソグラフィ装置の採用の高まりによってさらに後押しされている。市場はタイプ別に深紫外リソグラフィ（DUV）と極端紫外リソグラフィ（EUV）に区分され、DUVは費用対効果と高い解像力により現在大きなシェアを占めている。さらに、市場はアプリケーション別に先端パッケージング、MEMSデバイス、LEDデバイスに区分され、MEMSデバイスは、マイクロ機械部品、電気回路、センサー、アクチュエーターの高付加価値統合によりリードしている。

北米と欧州も重要な市場であり、半導体の研究開発能力が高く、様々な用途で半導体製品の需要が高まっている。市場概要では、業界動向、市場成長、市場セグメンテーションを紹介している。業界レポートによると、市場リーダーは継続的な研究開発を通じてイノベーションと市場価値を促進している。市場予測は、今後数年間の大幅な市場成長による業界の前向きな見通しを示唆している。業界分析では、強力な市場データと業界統計に支えられ、市場規模と市場シェアが拡大していることが示されています。

当市場レポートは、包括的な市場分析と市場レビューを提供し、市場動向と市場予測を詳述します。業界研究と業界販売は市場拡大の重要な要素であり、市場リーダーは市場展望の形成に極めて重要な役割を果たしています。レポート例とレポートPDFは、市場細分化と市場価値に関する貴重な洞察を提供し、調査会社にとって極めて重要な資料となります。業界情報と業界規模は、市場ダイナミクスと成長率を理解するために不可欠であり、関係者は業界の将来の軌道について十分な情報を得ることができます。

半導体露光装置 レポートスナップショット

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