化学機械研磨市場規模

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化学機械研磨市場分析

化学機械研磨市場の市場規模は2024年にUSD 3.89 billionと推定され、2029年にはUSD 4.94 billionに達し、予測期間中(2024-2029)に5.13%のCAGRで成長すると予測される。

化学機械研磨は、半導体ウェーハ製造プロセスにおける重要なプロセス技術ステップです。このプロセスでは、ウェーハの上面を研磨または平坦化して、化学スラリーや化学薬品を使用して、より耐久性があり、より強力な半導体材料を製造するために必要な完全に平坦な表面を作成します。機械的な動き。従来の研磨は時代遅れになりつつあり、ベンダーは、多くの土地スペースを占有し、多額の予算をかけて設置し、多大なメンテナンスを必要とするさまざまな機械を使用する代わりに、別の組立ラインでスライス、プローブ、研磨ができるワンストップ ソリューションを期待しています。現在、このようなソリューションは市場ではあまり一般的ではありませんが、予測期間中には次世代の研磨システムとなることが期待されています。

  • 電子デバイスの性能要件の高まりにより、より小型で堅牢な半導体および電子デバイスの必要性が生じており、その結果、CMP などのより新しい製造材料および技術の需要が高まっています。電子製品の需要の増加により電子パッケージング業界が成長し、新しい電子デバイスの機能に対する顧客の期待が高まっています。
  • 予測期間中のCMP市場の成長を促進するその他の決定要因は、ウェーハ平坦化のためのCMPのニーズの高まり、家庭用電化製品の高い需要、および微小電気機械システム(MEMS)の使用の増加です。それに加えて、IC製造、微小電気機械システム(MEMS)、光学、化合物半導体、コンピュータハードドライブ製造などの最終用途のアプリケーションの数が拡大しているため、化学機械平坦化または研磨の需要が予想されます。拡大するために。

化学機械研磨業界の概要

化学機械研磨市場の競争は中程度で、複数の大手企業で構成されている。この市場は過去20年間で競争力を高めてきた。市場シェアの面では、現在は少数の大手企業が市場を支配している。市場に参入している企業の多くは、新市場を開拓することで新規契約を確保し、市場での存在感を高めている。

  • 2018年11月 - Cabot Microelectronics Corporationは、先に発表したKMG Chemicals, Inc.の買収を完了したと発表した。 買収の結果、KMGはCabot Microelectronicsの完全子会社となった。
  • 2018年11月-アプライド マテリアルズ社のベンチャーキャピタル部門であるアプライド ベンチャーズLLCは、ニューヨーク州北部におけるイノベーションの加速を目指し、ニューヨーク州の経済開発機関であるエンパイア・ステート・ディベロップメント(ESD)との新たな共同投資イニシアチブを発表した。このイニシアチブの目的は、半導体、人工知能、先端光学、自律走行車、ライフサイエンス、クリーンエネルギーなど、既存産業から新興産業まで幅広く、ニューヨーク州北部の有望な新興企業に投資することです。

化学機械研磨市場のリーダー

  1. Ebara Corporation

  2. Applied Materials, Inc.

  3. Cabot Microelectronics Corporation

  4. Lapmaster Wolters GmbH

  5. DuPont Electronic Solutions

  6. *免責事項:主要選手の並び順不同
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化学機械研磨市場レポート-目次

1. 導入

  • 1.1 研究成果物
  • 1.2 研究の前提条件
  • 1.3 研究の範囲

2. 研究方法

3. エグゼクティブサマリー

4. 市場ダイナミクス

  • 4.1 市場概況
  • 4.2 市場推進要因と制約要因の紹介
  • 4.3 市場の推進力
    • 4.3.1 半導体の微細化ニーズの高まり
    • 4.3.2 MEMSおよびNEMSの使用増加がCMP市場の成長を促進
    • 4.3.3 半導体の微細化ニーズの高まり
  • 4.4 市場の制約
    • 4.4.1 製造に関する複雑さ
  • 4.5 業界の魅力 - ポーターのファイブフォース分析
    • 4.5.1 新規参入の脅威
    • 4.5.2 買い手/消費者の交渉力
    • 4.5.3 サプライヤーの交渉力
    • 4.5.4 代替品の脅威
    • 4.5.5 競争の激しさ
  • 4.6 テクノロジーのスナップショット

5. 市場セグメンテーション

  • 5.1 タイプ別
    • 5.1.1 CMP装置
    • 5.1.2 CMP消耗品
    • 5.1.2.1 スラリー
    • 5.1.2.2 パッド
    • 5.1.2.3 パッドコンディショナー
    • 5.1.2.4 その他の消耗品の種類
  • 5.2 用途別
    • 5.2.1 化合物半導体
    • 5.2.2 集積回路
    • 5.2.3 MEMSとNEMS
    • 5.2.4 その他の用途
  • 5.3 地理
    • 5.3.1 北米
    • 5.3.2 ヨーロッパ
    • 5.3.3 アジア太平洋地域
    • 5.3.4 世界のその他の地域

6. 競争環境

  • 6.1 会社概要
    • 6.1.1 Applied Materials, Inc.
    • 6.1.2 Cabot Microelectronics Corporation
    • 6.1.3 Ebara Corporation
    • 6.1.4 Lapmaster Wolters GmbH
    • 6.1.5 デュポン・ドゥ・ヌムール社
    • 6.1.6 Fujimi Incorporated
    • 6.1.7 Revasum Inc.
    • 6.1.8 LAM Research Corporation
    • 6.1.9 オカモト株式会社
    • 6.1.10 Strasbaugh Inc.
    • 6.1.11 Tokyo Seimitsu Co. Ltd. (Accretech Create Corp.)

7. 投資分析

8. 市場機会と将来のトレンド

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化学機械研磨産業セグメント

化学機械研磨は、集積回路やメモリーディスクを組み立てるために半導体産業で行われている認可された製造工程である。表面材料の洗浄を目的とする場合は、化学機械研磨と呼ばれる。しかし、表面を平坦にすることが目的の場合は、化学機械的平坦化と呼ばれます。

タイプ別
CMP装置
CMP消耗品 スラリー
パッド
パッドコンディショナー
その他の消耗品の種類
用途別
化合物半導体
集積回路
MEMSとNEMS
その他の用途
地理
北米
ヨーロッパ
アジア太平洋地域
世界のその他の地域
タイプ別 CMP装置
CMP消耗品 スラリー
パッド
パッドコンディショナー
その他の消耗品の種類
用途別 化合物半導体
集積回路
MEMSとNEMS
その他の用途
地理 北米
ヨーロッパ
アジア太平洋地域
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化学機械研磨市場調査FAQ

化学機械研磨市場の規模はどれくらいですか?

化学機械研磨市場規模は、2024年に60億9,000万米ドルに達し、7.23%のCAGRで成長し、2029年までに86億3,000万米ドルに達すると予想されています。

現在の化学機械研磨市場規模はどれくらいですか?

2024年の化学機械研磨市場規模は60億9,000万米ドルに達すると予測されています。

化学機械研磨市場の主要プレーヤーは誰ですか?

Ebara Corporation、Applied Materials, Inc.、Cabot Microelectronics Corporation、Lapmaster Wolters GmbH、DuPont Electronic Solutionsは、化学機械研磨市場で活動している主要企業です。

化学機械研磨市場で最も急速に成長している地域はどこですか?

アジア太平洋地域は、予測期間 (2024 ~ 2029 年) にわたって最も高い CAGR で成長すると推定されています。

化学機械研磨市場で最大のシェアを持っているのはどの地域ですか?

2024年には、アジア太平洋地域が化学機械研磨市場で最大の市場シェアを占めます。

この化学機械研磨市場は何年をカバーし、2023年の市場規模はどれくらいですか?

2023 年の化学機械研磨市場規模は 56 億 8,000 万米ドルと推定されています。このレポートは、化学機械研磨市場の過去の市場規模を2019年、2020年、2021年、2022年、2023年までカバーしています。また、レポートは、化学機械研磨市場の年間市場規模を2024年、2025年、2026年、2027年、2028年、2029年まで予測します。

最終更新日:

化学機械研磨産業レポート

Mordor Intelligence™ Industry Reports によって作成された、2024 年の化学機械研磨市場シェア、規模、収益成長率の統計。化学機械研磨分析には、2029 年までの市場予測見通しと歴史的概要が含まれます。この業界分析のサンプルを無料のレポート PDF ダウンロードとして入手してください。