Análisis de participación y tamaño del mercado de litografía ultravioleta extrema tendencias y pronósticos de crecimiento (2024-2029)

El mercado de litografía ultravioleta extrema está segmentado por tipo de producto (fuentes de luz, espejos, máscaras), tipo (fundición, fabricantes de dispositivos integrados (IDM)) y geografía.

Tamaño del mercado de litografía EUV

Análisis del mercado de litografía EUV

El tamaño del mercado de litografía EUV se estima en 10,34 mil millones de dólares en 2024, y se espera que alcance los 17,81 mil millones de dólares en 2029, creciendo a una tasa compuesta anual del 11,5% durante el período previsto (2024-2029).

La litografía EUV utiliza luz con una longitud de onda de solo 13,5 nm, lo que supone una reducción de casi 14 veces la longitud de onda de otras técnicas de litografía en la fabricación de chips avanzados, la litografía ultravioleta profunda, que utiliza luz de 193 nm. ASML, que es el actor dominante en el mercado, ha estado explorando formas de reducir el tamaño de los transistores y ha logrado avances considerables en el campo de la litografía EUV, que permite una producción más precisa y eficiente de semiconductores en pequeñas escalas de transistores de alrededor de 7 nm de tamaño de nodo o incluso 5 nm.

  • A medida que las geometrías de los semiconductores tienden a hacerse cada vez más pequeñas, la adopción de la tecnología de litografía EUV se ha vuelto extremadamente importante, ya que permite reducir patrones complejos en obleas al proporcionar una opción óptima y eficiente para aplicaciones de próxima generación, incluidas 5G, IA y Automotor. La tecnología EUV permite a los fabricantes de chips seguir impulsando el escalado de chips, ya que la longitud de onda más corta de la luz EUV es capaz de imprimir características de escala nanométrica de los diseños relacionados con las técnicas avanzadas.
  • Se espera que las herramientas Extreme Ultraviolet (EUV) de TSMC alcancen la madurez de producción, y la disponibilidad de las herramientas ya alcanza los objetivos de producción de alto volumen y potencia de salida de más de 250 vatios para las operaciones diarias. Los fabricantes de chips apuestan por EUV a 7 nm, 5 nm y más para obtener una lógica de vanguardia, y hoy en día no hay otras opciones disponibles. Las tecnologías de litografía de próxima generación no están listas y no se pueden aplicar a escalas de 7 nm y 5 nm. A 3 nm y más, los fabricantes de chips esperan utilizar EUV de alta NA, pero aún deben superarse varios desafíos en el desarrollo de esta tecnología.
  • TSMC también ha planeado comenzar la producción en volumen de productos de 3 nm para 2022. Samsung Electronics Co. Ltd, otro actor importante en el mercado, apunta a superar a TSMC para 2030 con su tecnología de litografía ultravioleta extrema (EUV). TSMC, anteriormente en diciembre de 2019, anunció que la compañía comenzaría a suministrar chips basados ​​en procesos de 5 Nm en la primera mitad de 2020 y comenzaría la producción en masa de chips de proceso de 3 nm en 2022. La compañía también anticipa producir 2- nm productos de proceso para 2024.
  • ASML enfrentó dificultades para exportar sus equipos debido a la COVID-19, lo que afectó negativamente a los principales productores mundiales de semiconductores, incluidos Samsung Electronics y TSMC. Un retraso en la entrega de equipos de la empresa está obligando a las dos empresas a cambiar sus hojas de ruta de desarrollo estratégico y producción. Debido a un retraso en la entrega de los equipos de la empresa, las dos empresas se ven obligadas a modificar sus planes estratégicos de desarrollo y producción. TSMC ha pospuesto la producción de prueba de semiconductores de 3 nm. Mientras tanto, Samsung Electronics esperaba comenzar la producción comercial de semiconductores de 5 nm en 2020, pero no pudo hacerlo hasta finales de 2021.

Descripción general de la industria de la litografía EUV

El Mercado de Litografía Ultravioleta Extrema está muy consolidado ya que ASML es el único fabricante de máquinas de litografía que utilizan luz ultravioleta extrema. La empresa fabrica y vende sus herramientas a algunos fabricantes de semiconductores globales, incluidos Intel, Samsung y Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC). Casi el 25% de los ingresos de la empresa se generan por las ventas de sistemas de litografía EUV, lo que refleja el monopolio de la empresa en la fabricación y comercialización de sistemas de litografía EUV.

  • Diciembre de 2021 ASML, una empresa de moda en Europa, está trabajando en una nueva versión de su equipo de litografía ultravioleta extrema, que se utiliza para tallar patrones en trozos de silicio que producen los procesadores más sofisticados del mundo. Samsung, TSMC e Intel utilizan el equipo EUV actual de la compañía para crear chips para la próxima generación de computadoras y teléfonos inteligentes.
  • Marzo de 2021 Samsung está aumentando su producción de escáneres EUV para competir con TSMC, la fundición más grande del mundo. Los escáneres EUV, a diferencia de las máquinas tradicionales, pueden agilizar el proceso de fabricación de chips al reducir la cantidad de procedimientos de fotolitografía necesarios para generar circuitos más finos, lo que hace que los principales fabricantes de chips compitan por la tecnología.

Líderes del mercado de litografía EUV

  1. ASML Holding NV

  2. Intel Corporation

  3. Samsung Electronics Co. Ltd

  4. Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited

  5. Toppan Photomasks Inc.

  6. *Nota aclaratoria: los principales jugadores no se ordenaron de un modo en especial
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Noticias del mercado de litografía EUV

  • Enero de 2022 Intel ha declarado que comenzará a emplear los escáneres High-NA Twinscan EXE de ASML para la fabricación de alto volumen (HVM) en 2025, cuando la empresa espera comenzar a utilizar su técnica de producción 18A (1,8 nm). Con la primera generación de tecnología de litografía ultravioleta extrema (EUV), Intel obviamente está detrás de sus rivales TSMC y Samsung, pero tiene la intención de ser el primero en implementar las herramientas EUV de próxima generación.
  • Octubre de 2021 Samsung Electronics dijo el martes que había lanzado la producción en masa de DRAM de 14 nanómetros (nm), que se producirá mediante litografía ultravioleta extrema (EUV). En comparación con la litografía láser Arf anterior, la litografía EUV permite a los fabricantes de semiconductores esbozar diseños de circuitos más finos en la oblea.

Informe de mercado de litografía EUV índice

1. INTRODUCCIÓN

  • 1.1 Supuestos de estudio y definición de mercado
  • 1.2 Alcance del estudio

2. METODOLOGÍA DE INVESTIGACIÓN

3. RESUMEN EJECUTIVO

4. PERSPECTIVAS DEL MERCADO

  • 4.1 Visión general del mercado
  • 4.2 Análisis de la cadena de valor de la industria
  • 4.3 Atractivo de la industria: análisis de las cinco fuerzas de Porter
    • 4.3.1 El poder de negociacion de los proveedores
    • 4.3.2 El poder de negociación de los compradores
    • 4.3.3 Amenaza de nuevos participantes
    • 4.3.4 Amenaza de productos sustitutos
    • 4.3.5 La intensidad de la rivalidad competitiva
  • 4.4 Evaluación del impacto de COVID-19 en la industria

5. DINÁMICA DEL MERCADO

  • 5.1 Indicadores de mercado
    • 5.1.1 La tecnología que da como resultado una producción de microchips más rápida en comparación con otras
    • 5.1.2 Los fabricantes de chips reducen el proceso de fabricación para mejorar la eficiencia
  • 5.2 Restricciones del mercado
    • 5.2.1 Alto coste que supone sustituir los láseres Deep UV existentes por láseres EUV
    • 5.2.2 Monopolio existente dentro del mercado.
  • 5.3 Instantánea de la tecnología

6. SEGMENTACIÓN DE MERCADO

  • 6.1 tipo de producto
    • 6.1.1 Fuentes de luz
    • 6.1.2 espejos
    • 6.1.3 Máscaras
  • 6.2 Tipo
    • 6.2.1 Fundición
    • 6.2.2 Fabricantes de dispositivos integrados (IDM)
  • 6.3 Geografía
    • 6.3.1 Corea del Sur
    • 6.3.2 Taiwán
    • 6.3.3 Otros

7. PANORAMA COMPETITIVO

  • 7.1 Perfiles de empresa
    • 7.1.1 ASML Holding NV
    • 7.1.2 NTT Advanced Technology Corporation
    • 7.1.3 Canon Inc.
    • 7.1.4 Nikon Corporation
    • 7.1.5 Intel Corporation
    • 7.1.6 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited
    • 7.1.7 Samsung Electronics Co. Ltd
    • 7.1.8 Toppan Photomasks Inc.
    • 7.1.9 Ushio, Inc.

8. ANÁLISIS DE INVERSIONES

9. FUTURO DEL MERCADO

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Segmentación de la industria de litografía EUV

La litografía Ultravioleta Extrema (EUV) utiliza una luz EUV de una longitud de onda extremadamente corta de 13,5 nm. Permite la exposición de patrones de circuitos delicados con un paso medio por debajo de 20 nm que la litografía óptica convencional no puede exponer. Poner la tecnología en uso práctico requiere una variedad de tecnologías de elementos, incluida la fuente de luz, la óptica, las máscaras, el fotorresistente y las herramientas de litografía.

El mercado de litografía ultravioleta extrema está segmentado por tipo de producto (fuentes de luz, espejos, máscaras), usuario final (fundición, fabricantes de dispositivos integrados) y geografía.

tipo de producto Fuentes de luz
espejos
Máscaras
Tipo Fundición
Fabricantes de dispositivos integrados (IDM)
Geografía Corea del Sur
Taiwán
Otros
tipo de producto
Fuentes de luz
espejos
Máscaras
Tipo
Fundición
Fabricantes de dispositivos integrados (IDM)
Geografía
Corea del Sur
Taiwán
Otros
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Preguntas frecuentes sobre investigación de mercado de litografía EUV

¿Qué tamaño tiene el mercado de litografía EUV?

Se espera que el tamaño del mercado de litografía EUV alcance los 10,34 mil millones de dólares en 2024 y crezca a una tasa compuesta anual del 11,5% hasta alcanzar los 17,81 mil millones de dólares en 2029.

¿Cuál es el tamaño actual del mercado Litografía EUV?

En 2024, se espera que el tamaño del mercado de litografía EUV alcance los 10,34 mil millones de dólares.

¿Quiénes son los actores clave en el mercado Litografía EUV?

ASML Holding NV, Intel Corporation, Samsung Electronics Co. Ltd, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, Toppan Photomasks Inc. son las principales empresas que operan en el mercado de litografía EUV.

¿Qué años cubre este mercado de Litografía EUV y cuál era el tamaño del mercado en 2023?

En 2023, el tamaño del mercado de litografía EUV se estimó en 9,27 mil millones de dólares. El informe cubre el tamaño histórico del mercado de Litografía EUV para los años 2019, 2020, 2021, 2022 y 2023. El informe también pronostica el tamaño del mercado de Litografía EUV para los años 2024, 2025, 2026, 2027, 2028 y 2029.

Informe de la industria de litografía EUV

Estadísticas para la participación de mercado, el tamaño y la tasa de crecimiento de ingresos de Litografía EUV en 2024, creadas por Mordor Intelligence™ Industry Reports. El análisis de litografía EUV incluye una perspectiva de previsión del mercado hasta 2029 y una descripción histórica. Obtenga una muestra de este análisis de la industria como descarga gratuita del informe en PDF.

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