| Período de Estudio | 2019 - 2029 |
| Año Base Para Estimación | 2023 |
| CAGR | 2.00% |
| Mercado de Crecimiento Más Rápido | Asia Pacífico |
| Mercado Más Grande | Asia Pacífico |
| Concentración del Mercado | Medio |
Jugadores principales*Nota aclaratoria: los principales jugadores no se ordenaron de un modo en especial |
Análisis del mercado de fotomáscaras láser
Se espera que el mercado de fotomáscaras láser registre una tasa compuesta anual superior al 2% durante el período previsto (2021-2026). Una fotomáscara es una placa de sílice fundida, cubierta con un patrón de áreas opacas, transparentes y con cambio de fase que se proyectan sobre obleas en el proceso de litografía para definir el diseño de una capa de un circuito integrado.
- A medida que los transistores se han vuelto cada vez más pequeños, las fotomáscaras se han vuelto más complejas para transferir el patrón a las obleas de silicio con precisión. En consecuencia, el proceso de creación de fotomáscaras se ha vuelto más avanzado, ya que incluso los defectos más leves en una fotomáscara pueden afectar el rendimiento del dispositivo de silicio.
- Verificar que un patrón de fotomáscara esté libre de defectos es muy crítico, especialmente en el caso de chips que generan altos ingresos. Cada chip es el producto final del proceso de litografía de semiconductores, siendo una parte integral la litografía óptica habilitada por una fuente de luz. Las fuentes de luz utilizadas para estas fotomáscaras son fuentes de luz ultravioleta profunda (DUV) y ultravioleta extrema (EUV).
- Con la creciente demanda de semiconductores con un rendimiento aún mayor para aplicaciones, como el análisis de big data, la inteligencia artificial y la comercialización de tecnología de automóviles sin conductor, la exposición a EUV está atrayendo la atención como tecnología de fabricación de semiconductores de próxima generación. Esta tendencia ha impulsado significativamente la producción de fotomáscaras eficaces. Toppan desarrolló en 2016 una fotomáscara EUV de próxima generación para semiconductores de última generación. La nueva fotomáscara minimiza los reflejos no deseados de la luz en las secciones periféricas durante la exposición EUV, emergiendo como una tecnología de fabricación de semiconductores de próxima generación.
Tendencias del mercado de fotomáscara láser
Uso creciente de dispositivos electrónicos
- La demanda de dispositivos electrónicos, como tabletas, teléfonos inteligentes y phablets, entre otros, está aumentando a un ritmo rápido. Ha aumentado la demanda de estos dispositivos, especialmente en los países en desarrollo, como India, China y otros países.
- Factores como el aumento de la renta disponible y la aparición de una clase media están impulsando aún más la demanda de estos dispositivos.
- Los dispositivos electrónicos antes mencionados están alimentados por circuitos integrados (microchips); una fotomáscara contiene el patrón de un circuito integrado y se utiliza para fabricarlos.
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Se espera que Asia-Pacífico tenga una participación significativa
- Los países de Asia y el Pacífico son las regiones líderes en la industria de semiconductores. China y Corea del Sur son los países líderes en el mercado de fotomáscaras. Estos países son el hogar de la mayoría de las empresas clave de fabricación de productos electrónicos.
- Además, China está presenciando una demanda masiva de componentes semiconductores, especialmente chips integrados. El gobierno chino también ha realizado algunos cambios en su política para fomentar el desarrollo de la industria nacional de semiconductores.
- Además, las ferias comerciales también contribuyen significativamente al crecimiento de la región en el mercado. Photomask Japan es un simposio internacional y una exposición técnica sobre fotomáscaras y litografía en Japón. El simposio tiene como objetivo reunir a ingenieros e investigadores de todo el mundo en el campo de las fotomáscaras, máscaras NGL y tecnologías relacionadas para discutir avances recientes, aplicaciones y tendencias futuras.
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Descripción general de la industria de fotomáscaras láser
El mercado de las fotomáscaras láser es muy competitivo y consta de varios actores importantes. Muchas empresas están aumentando su presencia en el mercado mediante la introducción de nuevos productos o la realización de fusiones y adquisiciones estratégicas.
- Octubre de 2018 Heidelberg Instruments lanzó el escritor de máscaras láser ULTRA Semiconductor, la solución más económica para la producción de fotomáscaras con un nodo de diseño de 150 nm. Con su alto rendimiento, tamaño mínimo de característica, excelente superposición, alineación de segunda capa y uniformidad de CD, ULTRA es ideal para abordar diversas aplicaciones en la industria de semiconductores.
- Marzo de 2018 Orbotech Ltd y KLA-Tencor Corporation firmaron un acuerdo según el cual KLA-Tencor puede adquirir Orbotech para diversificar significativamente la base de ingresos de KLA-Tencor Corporation. Este acuerdo tiene como objetivo abordar la oportunidad de mercado en las áreas de fabricación de placas de circuito impreso, pantallas planas y semiconductores de alto crecimiento.
Líderes del mercado de fotomáscaras láser
-
KLA-Tencor Corporation
-
Applied Materials Inc.
-
Photronics Inc.
-
Nippon Filcon Co. Ltd
-
Toppan Printing Co. Ltd
- *Nota aclaratoria: los principales jugadores no se ordenaron de un modo en especial
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Segmentación de la industria de fotomáscaras láser
Una fotomáscara es una herramienta utilizada para la producción de componentes, incluidos dispositivos electrónicos (semiconductores), pantallas, PCB y MEMS. Es una copia maestra para el patronaje.
- Dispositivos electrónicos los dispositivos, como CPU y otros dispositivos de memoria que requieren semiconductores/IC, utilizan fotomáscaras.
- Componentes discretos con una sola tarea – Transistores y memorias
- Elementos receptores/emisores de luz sensores de imagen CCD/CMOS y LED
- Dispositivos de visualización LCD y OLED
- MEMS (Sistema Micro Electro Mecánico) - Sensores de aceleración
- Cabezales magnéticos para discos duros, entre varios otros.
| Por tipo de fotomáscara | Retículas |
| Maestros | |
| Geografía | América del norte |
| Europa | |
| Asia-Pacífico | |
| América Latina | |
| Medio Oriente y África |
Por tipo de fotomáscara
| Retículas |
| Maestros |
Geografía
| América del norte |
| Europa |
| Asia-Pacífico |
| América Latina |
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Preguntas frecuentes sobre investigación de mercado de fotomáscara láser
¿Cuál es el tamaño actual del mercado Fotomáscara láser?
Se proyecta que el mercado Fotomáscara láser registrará una tasa compuesta anual del 2% durante el período de pronóstico (2024-2029).
¿Quiénes son los actores clave en el mercado Fotomáscara láser?
KLA-Tencor Corporation, Applied Materials Inc., Photronics Inc., Nippon Filcon Co. Ltd, Toppan Printing Co. Ltd son las principales empresas que operan en Laser Photomask Market.
¿Cuál es la región de más rápido crecimiento en el mercado Fotomáscara láser?
Se estima que Asia Pacífico crecerá a la CAGR más alta durante el período previsto (2024-2029).
¿Qué región tiene la mayor participación en el mercado de fotomáscara láser?
En 2024, Asia Pacífico representa la mayor cuota de mercado en el mercado de fotomascarillas láser.
¿Qué años cubre este mercado de Fotomáscara láser?
El informe cubre el tamaño histórico del mercado de Fotomáscara láser para los años 2019, 2020, 2021, 2022 y 2023. El informe también pronostica el tamaño del mercado de Fotomáscara láser para los años 2024, 2025, 2026, 2027, 2028 y 2029.
Última actualización de la página el: Junio 9, 2023
Informe de la industria de fotomáscaras láser
Estadísticas para la participación de mercado, el tamaño y la tasa de crecimiento de ingresos de Fotomáscara láser en 2024, creadas por Mordor Intelligence™ Industry Reports. El análisis de Laser Photomask incluye una perspectiva de previsión del mercado hasta 2029 y una descripción histórica. Obtenga una muestra de este análisis de la industria como descarga gratuita del informe en PDF.
