极紫外光刻市场规模和份额分析 - 增长趋势和预测(2024 - 2029)

极紫外光刻市场按产品类型(光源、镜子、掩模)、类型(铸造厂、集成器件制造商 (IDM))和地理位置进行细分。

EUV光刻市场规模

EUV光刻机市场分析

EUV光刻市场规模预计到2024年为103.4亿美元,预计到2029年将达到178.1亿美元,在预测期内(2024-2029年)复合年增长率为11.5%。

EUV 光刻使用的光波长仅为 13.5 nm,这比先进芯片制造中的其他光刻技术(使用 193 nm 光的深紫外光刻技术)的波长减少了近 14 倍。作为市场主导者的 ASML 一直在探索减小晶体管尺寸的方法,并在 EUV 光刻领域取得了长足的进步,这使得在 7nm 节点尺寸左右甚至更小的晶体管尺寸上更精确、更高效地生产半导体5纳米。

  • 随着半导体几何形状趋于变得越来越小,EUV 光刻技术的采用变得极其重要,因为它为下一代应用(包括 5G、人工智能和汽车。 EUV 技术使芯片制造商能够继续推动芯片尺寸缩小,因为较短波长的 EUV 光能够打印与先进技术相关的设计的纳米级特征。
  • 台积电的极紫外 (EUV) 工具预计将达到生产成熟度,工具可用性已达到大批量生产的目标,并且日常操作的输出功率超过 250 瓦。芯片制造商寄希望于 7 纳米、5 纳米及更先进的 EUV 技术来实现领先的逻辑,但目前没有其他选择。下一代光刻技术尚未准备好,无法在7nm和5nm尺度上应用。在 3 纳米及更先进的工艺中,芯片制造商希望使用高数值孔径 EUV,但在开发该技术时仍需克服一些挑战。
  • 台积电也计划在 2022 年开始量产 3 纳米产品。市场上的另一个主要参与者三星电子有限公司的目标是在 2030 年凭借其极紫外 (EUV) 光刻技术超越台积电。台积电此前于 2019 年 12 月宣布,该公司将于 2020 年上半年开始供应 5 纳米工艺芯片,并将于 2022 年开始量产 3 纳米工艺芯片。该公司还预计生产 2-到 2024 年,将推出纳米工艺产品。
  • 由于 COVID-19,ASML 面临设备出口困难,对三星电子和台积电等全球主要半导体生产商产生了负面影响。该公司设备交付的延迟迫使两家公司改变其战略开发和生产路线图。由于公司设备交付延迟,两家公司不得不改变战略发展和生产计划。台积电推迟了 3 纳米半导体的试产。与此同时,三星电子曾希望在 2020 年开始 5 纳米半导体的商业生产,但直到 2021 年底才得以实现。

EUV光刻行业概况

由于 ASML 是唯一一家使用极紫外光的光刻机制造商,因此极紫外光刻市场高度整合。该公司生产工具并将其销售给一些全球半导体制造商,包括英特尔、三星和台湾积体电路制造公司 (TSMC)。该公司近25%的收入来自EUV光刻系统的销售,这反映了该公司在EUV光刻系统的制造和商业化方面的垄断地位。

  • 2021 年 12 月:欧洲热门股票 ASML 正在开发新版本的极紫外光刻设备,该设备用于在硅块上雕刻图案,从而生产世界上最复杂的处理器。三星、台积电和英特尔使用该公司当前的 EUV 设备来制造下一代计算机和智能手机的芯片。
  • 2021 年 3 月:三星正在增加其 EUV 扫描仪产量,以与全球最大代工厂台积电竞争。与传统机器不同,EUV 扫描仪可以通过减少生成更精细电路所需的光刻程序数量来简化芯片制造流程,从而导致主要芯片制造商争夺该技术。

EUV 光刻市场领导者

  1. ASML Holding NV

  2. Intel Corporation

  3. Samsung Electronics Co. Ltd

  4. Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited

  5. Toppan Photomasks Inc.

  6. *免责声明:主要玩家排序不分先后
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EUV光刻市场新闻

  • 2022 年 1 月:英特尔表示,将于 2025 年开始采用 ASML 的 High-NA Twinscan EXE 扫描仪进行大批量制造 (HVM),届时该公司希望开始使用其 18A (1.8 nm) 生产技术。凭借第一代极紫外(EUV)光刻技术,英特尔明显落后于竞争对手台积电和三星,但它打算成为第一个部署下一代EUV工具的人。
  • 2021 年 10 月:三星电子周二表示,已开始量产 14 纳米 (nm) DRAM,将采用极紫外 (EUV) 光刻技术进行生产。与之前的 Arf 激光光刻相比,EUV 光刻允许半导体制造商在晶圆上绘制更精细的电路设计。

EUV 光刻市场报告 - 目录

1. 介绍

  • 1.1 研究假设和市场定义
  • 1.2 研究范围

2. 研究方法论

3. 执行摘要

4. 市场洞察

  • 4.1 市场概况
  • 4.2 行业价值链分析
  • 4.3 行业吸引力——波特五力分析
    • 4.3.1 供应商的议价能力
    • 4.3.2 买家的议价能力
    • 4.3.3 新进入者的威胁
    • 4.3.4 替代产品的威胁
    • 4.3.5 竞争激烈程度
  • 4.4 COVID-19 对行业影响的评估

5. 市场动态

  • 5.1 市场驱动因素
    • 5.1.1 与其他技术相比,该技术可以更快地输出微芯片
    • 5.1.2 芯片制造商减少制造流程以提高效率
  • 5.2 市场限制
    • 5.2.1 用 EUV 激光器替换现有深紫外激光器的成本很高
    • 5.2.2 市场上存在垄断
  • 5.3 技术快照

6. 市场细分

  • 6.1 产品类别
    • 6.1.1 光源
    • 6.1.2 镜子
    • 6.1.3 面具
  • 6.2 类型
    • 6.2.1 铸造厂
    • 6.2.2 集成设备制造商 (IDM)
  • 6.3 地理
    • 6.3.1 韩国
    • 6.3.2 台湾
    • 6.3.3 其他的

7. 竞争格局

  • 7.1 公司简介
    • 7.1.1 ASML Holding NV
    • 7.1.2 NTT Advanced Technology Corporation
    • 7.1.3 Canon Inc.
    • 7.1.4 Nikon Corporation
    • 7.1.5 Intel Corporation
    • 7.1.6 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited
    • 7.1.7 Samsung Electronics Co. Ltd
    • 7.1.8 Toppan Photomasks Inc.
    • 7.1.9 Ushio, Inc.

8. 投资分析

9. 市场的未来

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EUV光刻行业细分

极紫外 (EUV) 光刻使用波长极短的 13.5 nm 的 EUV 光。它可以曝光传统光学光刻无法曝光的半节距低于20 nm的精细电路图案。将该技术投入实际应用需要多种要素技术,包括光源、光学、掩模、光刻胶和光刻工具。

极紫外光刻市场按产品类型(光源、镜子、掩模)、Ens-用户(铸造厂、集成设备制造商)和地理位置进行细分。

产品类别 光源
镜子
面具
类型 铸造厂
集成设备制造商 (IDM)
地理 韩国
台湾
其他的
产品类别
光源
镜子
面具
类型
铸造厂
集成设备制造商 (IDM)
地理
韩国
台湾
其他的
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EUV 光刻市场研究常见问题解答

EUV光刻市场有多大?

EUV光刻市场规模预计到2024年将达到103.4亿美元,并以11.5%的复合年增长率增长,到2029年将达到178.1亿美元。

目前 EUV 光刻市场规模有多大?

2024年,EUV光刻市场规模预计将达到103.4亿美元。

EUV光刻机市场的主要参与者有哪些?

ASML Holding NV、Intel Corporation、Samsung Electronics Co. Ltd、Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited、Toppan Photomasks Inc.是EUV光刻市场的主要公司。

EUV光刻市场涵盖哪些年份?2023年市场规模是多少?

2023年,EUV光刻市场规模预计为92.7亿美元。该报告涵盖了EUV光刻市场的历史市场规模:2019年、2020年、2021年、2022年和2023年。该报告还预测了EUV光刻市场的以下年份的规模:2024年、2025年、2026年、2027年、2028年和2029年。

EUV光刻行业报告

Mordor Intelligence™ 行业报告创建的 2024 年 EUV 光刻市场份额、规模和收入增长率的统计数据。 EUV 光刻分析包括 2029 年的市场预测展望和历史概述。获取此行业分析的样本(免费下载 PDF 报告)。

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