フォトマスク市場規模・シェア分析 - 成長動向と予測(2024年〜2029年)

フォトマスク市場レポートは、製品タイプ(レチクル、マスターマスク、コピーマスク)、マスクタイプ(バイナリマスク、位相シフトマスク(PSM)、極端紫外線(EUV)マスク、その他のマスクタイプ)、アプリケーション(半導体・IC製造、フラットパネルディスプレイ、MEMSデバイス、その他のアプリケーション)、エンドユーズ産業(エレクトロニクス、自動車、通信、航空宇宙・防衛、その他のエンドユーズ産業)、地域(北米、欧州、アジア太平洋地域、中南米、中東・アフリカ)で区分されています。市場規模および予測は、上記のすべてのセグメントについて金額(米ドル)で提供されます。

フォトマスク市場規模

フォトマスク市場分析

フォトマスクの市場規模はUSD 6.08 billionと推定され、2030までにはUSD 7.59 billionに達すると予測され、予測期間中(2025-2030)のCAGRは4.53%である。

  • フォトマスクは、集積回路(IC)、微小電気機械システム(MEMS)、フラットパネルディスプレイの生産を支える半導体・エレクトロニクス分野で極めて重要な役割を果たしている。不透明層でコーティングされた高精度の石英またはガラス板には、フォトリソグラフィに不可欠な微細パターンが形成されている。これらのパターンはテンプレートとして機能し、チップ製造時に回路設計をシリコンウエハーに転写するのを容易にする。半導体産業が5nmや3nmのような微細ノードに向かって進むにつれて、フォトマスクの需要は急増し、より高解像度でより複雑な設計が必要になっている。
  • フォトマスク市場を牽引しているのは、先端半導体チップに依存する家電、自動車、通信機器などの需要の急増である。さらに、人工知能(AI)、5G、モノのインターネット(IoT)のような次世代技術への業界の軸足は、フォトマスクの複雑さとレイヤリングを増幅し、結果として市場価値を高めている。先端チップの製造に不可欠なEUV(極端紫外線)リソグラフィのようなトレンドは、厳格な基準を満たす高性能フォトマスクの需要を高めている。
  • フォトマスク市場には、地域ごとのダイナミクスが大きく影響している。台湾、韓国、中国の半導体大国に支えられたアジア太平洋地域が市場をリードしている。半導体ファウンドリーへの多額の投資とエレクトロニクスのエコシステムの繁栄により、アジア太平洋地域の優位性は明らかである。技術革新と研究が牽引する北米と欧州も注目すべき市場シェアを占めている。しかし、地政学的緊張、貿易紛争、サプライチェーンの課題により、現地生産と戦略的パートナーシップの必要性が浮き彫りになっている。
  • フォトマスク市場は有望である一方、課題も抱えている。フォトマスクの開発コストは、複雑な設計や特殊な装置によって高騰しており、中小企業の足かせとなっている。また、業界はサプライチェーンの制約にも直面しており、進化する半導体のニーズに対応するためには厳しい品質基準を遵守しなければならない。こうした課題を克服し、持続的な成長を確保するために、業界は技術的進歩、共同事業、研究開発投資の強化に傾注することになりそうだ。
  • 2024年2月、世界的な大手プロバイダーであるTekscend Photomask(旧Toppan Photomask)は、IBMと共同研究開発契約を締結した。極端紫外線(EUV)リソグラフィーを活用し、2ナノメートル(nm)ロジック半導体ノードに焦点を当てる。この提携は、次世代半導体向けのHigh-NA EUVフォトマスクの開発にも重点を置いている。

フォトマスク産業概要

フォトマスク市場は、Toppan Photomasks, Inc.、大日本印刷株式会社、Photronics, Inc.、HOYA Corporation、SK-Electronics Co.技術主導の業界で競争するこれらの企業は、市場ポジションを維持するため、技術革新、精密製造、戦略的パートナーシップに注力している。EUVのような先端リソグラフィ技術の台頭により、高性能フォトマスクの必要性が高まり、研究開発への投資が活発化している。地域ごとの需要に対応し、サプライチェーンの強靭性を高めるために、地域拡大や半導体メーカーとの提携が一般的な戦略となっている。また、中小企業もニッチ分野に参入し、コスト効率の高いソリューションやカスタマイズされた製品を活用して競争している。競争環境は、技術力とグローバル展開の強化を目指す主要市場プレイヤーの統合によってさらに形成されている。

フォトマスク市場のリーダー

  1. Tekscend Photomask Inc.

  2. Dai Nippon Printing Co., Ltd.

  3. Photronics, Inc.

  4. Hoya Corporation

  5. SK-Electronics Co., Ltd.

  6. *免責事項:主要選手の並び順不同
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フォトマスク市場ニュース

  • 2024年11月半導体フォトマスク業界のリーディングカンパニーであるトッパン・フォトマスク社は、このたび社名を「Tekscend Photomask Corp.この戦略的な社名変更は、高度な微細加工技術における同社の実力とその価値を世界的に認知してもらうことを目的としている。この新しいアイデンティティを採用することで、同社はグローバルな舞台での競争力を強化し、顧客やパートナーとの信頼関係をさらに強固なものにしようとしていた。この新たな旗印の下、世界各地の拠点がシームレスに連携し、半導体産業の技術的進歩と価値向上を推進していく。
  • 2024年3月大日本印刷(大日本印刷株式会社(DNP)は、EUV(Extreme Ultra-Violet:極端紫外線)リソグラフィーを活用し、2ナノメートルロジック半導体用フォトマスクの量産に着手した。DNPはこの事業において、東京のラピダス社に最先端技術を提供する協力会社として参画している。ラピダスは、新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)が主導する「ポスト5G通信システム基盤強化プロジェクトに積極的に取り組んでいる。

フォトマスク市場レポート - 目次

1. 導入

  • 1.1 研究の前提と市場の定義
  • 1.2 研究の範囲

2. 研究方法

3. エグゼクティブサマリー

4. 市場インサイト

  • 4.1 市場概要
  • 4.2 ポーターの5つの力の分析
    • 4.2.1 サプライヤーの交渉力
    • 4.2.2 消費者の交渉力
    • 4.2.3 新規参入の脅威
    • 4.2.4 代替品の脅威
    • 4.2.5 競争の激しさ
  • 4.3 規制の状況
  • 4.4 エコシステム分析
  • 4.5 価格分析
  • 4.6 技術間の比較分析(深紫外線(DUV)リソグラフィー、極端紫外線(EUV)リソグラフィー、電子ビーム技術)

5. 市場のダイナミクス

  • 5.1 市場の推進要因
    • 5.1.1 先端半導体チップの需要増加
    • 5.1.2 家電製品とIoTデバイスの成長
    • 5.1.3 EUVリソグラフィー技術の導入
  • 5.2 市場の課題
    • 5.2.1 フォトマスク開発の高コスト
    • 5.2.2 サプライチェーンの制約と地政学的緊張

6. 市場セグメンテーション

  • 6.1 製品タイプ別
    • 6.1.1 レチクル
    • 6.1.2 マスターマスク
    • 6.1.3 マスクをコピー
  • 6.2 マスクの種類別
    • 6.2.1 バイナリマスク
    • 6.2.2 位相シフトマスク (PSM)
    • 6.2.3 極端紫外線(EUV)マスク
    • 6.2.4 その他のマスクタイプ
  • 6.3 アプリケーション別
    • 6.3.1 半導体およびIC製造
    • 6.3.2 フラットパネルディスプレイ
    • 6.3.3 MEMSデバイス
    • 6.3.4 その他のアプリケーション
  • 6.4 最終用途産業別
    • 6.4.1 エレクトロニクス
    • 6.4.2 自動車
    • 6.4.3 通信
    • 6.4.4 航空宇宙および防衛
    • 6.4.5 その他
    • 6.4.6 その他の最終用途産業
  • 6.5 地理別***
    • 6.5.1 北米
    • 6.5.2 ヨーロッパ
    • 6.5.3 アジア
    • 6.5.4 オーストラリアとニュージーランド
    • 6.5.5 ラテンアメリカ
    • 6.5.6 中東およびアフリカ

7. 競争環境

  • 7.1 企業プロフィール
    • 7.1.1 Tekscend Photomask Inc. (formerly Toppan Photomask) ​
    • 7.1.2 Dai Nippon Printing Co., Ltd.
    • 7.1.3 Photronics, Inc.
    • 7.1.4 Hoya Corporation
    • 7.1.5 SK-Electronics Co., Ltd.
    • 7.1.6 Nippon Filcon Co., Ltd.
    • 7.1.7 Compugraphics International Ltd.
    • 7.1.8 Taiwan Mask Corporation (TMC)
    • 7.1.9 Mycronic AB
    • 7.1.10 LG Innotek Co., Ltd.

8. 市場機会と投資分析

9. 今後の市場見通し

**空き状況によります
***最終学習では、オーストラリアとニュージーランドは、アジア太平洋セグメントの一部としてアジアとともに学習される。
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フォトマスク産業セグメンテーション

フォトマスク市場は、半導体ウェハー、フラットパネル・ディスプレイ、MEMSデバイスに回路パターンを転写するフォトリソグラフィーで使用される高精度のプレートやテンプレートの製造と供給を包括している。フォトマスクは先端チップや電子部品の製造に不可欠であり、精密なパターニングやスケーリングを可能にする。市場の成長は、半導体技術の進歩、設計の複雑化、EUVのような新しいリソグラフィ技術の採用によってもたらされる。

フォトマスク市場は、製品タイプ(レチクル、マスターマスク、コピーマスク)、マスクタイプ(バイナリマスク、位相シフトマスク(PSM)、極端紫外線(EUV)マスク、その他マスクタイプ)、用途(半導体・IC製造、フラットパネルディスプレイ、MEMSデバイス、その他用途)、最終用途産業(エレクトロニクス、自動車、通信、航空宇宙・防衛、その他最終用途産業)、地域(北米、欧州、アジア太平洋、中南米、中東・アフリカ)で区分される。市場規模および予測は、上記のすべてのセグメントについて金額(米ドル)で提供されています。

製品タイプ別 レチクル
マスターマスク
マスクをコピー
マスクの種類別 バイナリマスク
位相シフトマスク (PSM)
極端紫外線(EUV)マスク
その他のマスクタイプ
アプリケーション別 半導体およびIC製造
フラットパネルディスプレイ
MEMSデバイス
その他のアプリケーション
最終用途産業別 エレクトロニクス
自動車
通信
航空宇宙および防衛
その他
その他の最終用途産業
地理別*** 北米
ヨーロッパ
アジア
オーストラリアとニュージーランド
ラテンアメリカ
中東およびアフリカ
製品タイプ別
レチクル
マスターマスク
マスクをコピー
マスクの種類別
バイナリマスク
位相シフトマスク (PSM)
極端紫外線(EUV)マスク
その他のマスクタイプ
アプリケーション別
半導体およびIC製造
フラットパネルディスプレイ
MEMSデバイス
その他のアプリケーション
最終用途産業別
エレクトロニクス
自動車
通信
航空宇宙および防衛
その他
その他の最終用途産業
地理別***
北米
ヨーロッパ
アジア
オーストラリアとニュージーランド
ラテンアメリカ
中東およびアフリカ
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フォトマスク市場調査FAQ

フォトマスク市場の規模は?

フォトマスク市場規模は2024年に58.2億ドルに達し、年平均成長率4.53%で2029年には72.6億ドルに達すると予測される。

現在のフォトマスク市場規模は?

2024年のフォトマスク市場規模は58.2億ドルに達すると予想される。

フォトマスク市場のキープレイヤーは?

Tekscend Photomask Inc.、Dai Nippon Printing Co., Ltd.、Photronics, Inc.、Hoya Corporation、SK-Electronics Co., Ltd.がフォトマスク市場で事業を展開している主要企業である。

フォトマスク市場で最も成長している地域は?

北米は予測期間(2024-2029年)に最も高いCAGRで成長すると推定される。

フォトマスク市場で最大のシェアを占める地域は?

2024年には、アジア太平洋地域がフォトマスク市場で最大のシェアを占める。

フォトマスク市場の対象年、2023年の市場規模は?

2023年のフォトマスク市場規模は55.6億米ドルと推定される。本レポートでは、フォトマスク市場の過去の市場規模を2019年、2020年、2021年、2022年、2023年の各年について調査しています。また、2024年、2025年、2026年、2027年、2028年、2029年のフォトマスク市場規模を予測しています。

最終更新日: 12月 24, 2024

フォトマスク産業レポート

Mordor Intelligence™ Industry Reportsが作成した2024年のフォトマスク市場シェア、規模、収益成長率の統計。フォトマスクの分析には、2024年から2029年までの市場予測展望と過去の概要が含まれます。この産業分析のサンプルを無料レポートPDFダウンロードで入手できます。