Taille du marché des photomasques laser

Taille du marché des photomasques laser
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Analyse du marché des photomasques laser

Le marché des photomasques laser devrait enregistrer un TCAC supérieur à 2 % au cours de la période de prévision (2021-2026). Un photomasque est une plaque de silice fondue, recouverte d'un motif de zones opaques, transparentes et déphasées qui sont projetées sur des tranches lors du processus de lithographie pour définir la disposition d'une couche d'un circuit intégré.

  • À mesure que les transistors sont devenus de plus en plus petits, les photomasques sont devenus plus complexes pour transférer avec précision le motif sur des tranches de silicium. Le processus de création de photomasques est devenu en conséquence plus avancé, car même de légers défauts dans un photomasque peuvent avoir un impact sur les performances du dispositif en silicium.
  • Vérifier quun motif de photomasque est exempt de défauts est très critique, en particulier dans le cas de puces à revenus élevés. Chaque puce est le produit final du processus de lithographie des semi-conducteurs, dont une partie intégrante est la lithographie optique activée par une source de lumière. Les sources de lumière utilisées pour ces photomasques sont des sources de lumière ultraviolette profonde (DUV) et ultraviolette extrême (EUV).
  • Avec la demande croissante de semi-conducteurs aux performances encore plus élevées pour des applications telles que lanalyse des mégadonnées, lintelligence artificielle et la commercialisation de la technologie des voitures sans conducteur, lexposition aux EUV attire lattention en tant que technologie de fabrication de semi-conducteurs de nouvelle génération. Cette tendance a considérablement stimulé la production de photomasques efficaces. Toppan a développé en 2016 un photomasque EUV de nouvelle génération pour les semi-conducteurs de pointe. Le nouveau photomasque minimise les réflexions indésirables de la lumière sur les sections périphériques lors de l'exposition EUV, devenant ainsi une technologie de fabrication de semi-conducteurs de nouvelle génération.

Aperçu du marché des photomasques laser

Le marché des photomasques laser est très concurrentiel et se compose de plusieurs acteurs majeurs. De nombreuses entreprises accroissent leur présence sur le marché en introduisant de nouveaux produits ou en concluant des fusions et acquisitions stratégiques.

  • Octobre 2018 - Heidelberg Instruments a lancé l'enregistreur de masques laser à semi-conducteurs ULTRA, la solution la plus économique pour la production de photomasques avec un nœud de conception de 150 nm. Avec son débit élevé, sa taille minimale de caractéristiques, son excellente superposition, son alignement de la deuxième couche et son uniformité de CD, ULTRA est idéal pour répondre à diverses applications dans lindustrie des semi-conducteurs.
  • Mars 2018 - Orbotech Ltd et KLA-Tencor Corporation ont conclu un accord selon lequel KLA-Tencor pourrait acquérir Orbotech afin de diversifier considérablement la base de revenus de KLA-Tencor Corporation. Cet accord vise à saisir les opportunités de marché dans les domaines à forte croissance des cartes de circuits imprimés, des écrans plats et de la fabrication de semi-conducteurs.

Leaders du marché des photomasques laser

  1. KLA-Tencor Corporation

  2. Applied Materials Inc.

  3. Photronics Inc.

  4. Nippon Filcon Co. Ltd

  5. Toppan Printing Co. Ltd

  6. *Avis de non-responsabilité : les principaux acteurs sont triés sans ordre particulier
KLA-Tencor Corporation, Applied Materials Inc., Photronics Inc., Nippon Filcon Co. Ltd, Toppan Printing Co. Ltd
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Rapport sur le marché des photomasques laser – Table des matières

1. INTRODUCTION

  • 1.1 Livrables de l’étude
  • 1.2 Hypothèses de l'étude
  • 1.3 Portée de l'étude

2. MÉTHODOLOGIE DE RECHERCHE

3. RÉSUMÉ EXÉCUTIF

4. DYNAMIQUE DU MARCHÉ

  • 4.1 Aperçu du marché
  • 4.2 Introduction aux moteurs et contraintes du marché
  • 4.3 Facteurs de marché
    • 4.3.1 Utilisation croissante des appareils électroniques
    • 4.3.2 Avènement des technologies, telles que le Big Data et l'IA
  • 4.4 Restrictions du marché
    • 4.4.1 Complexité de fabrication
  • 4.5 Attractivité de l'industrie - Analyse des cinq forces de Porter
    • 4.5.1 La menace de nouveaux participants
    • 4.5.2 Pouvoir de négociation des acheteurs/consommateurs
    • 4.5.3 Pouvoir de négociation des fournisseurs
    • 4.5.4 Menace des produits de substitution
    • 4.5.5 Intensité de la rivalité concurrentielle

5. APERÇU DE LA TECHNOLOGIE

  • 5.1 Aperçu de la technologie
  • 5.2 Type de commerce
    • 5.2.1 Captif
    • 5.2.2 Marchand

6. SEGMENTATION DU MARCHÉ

  • 6.1 Par type de photomasque
    • 6.1.1 Réticules
    • 6.1.2 Maîtrise
  • 6.2 Géographie
    • 6.2.1 Amérique du Nord
    • 6.2.2 L'Europe
    • 6.2.3 Asie-Pacifique
    • 6.2.4 l'Amérique latine
    • 6.2.5 Moyen-Orient et Afrique

7. PAYSAGE CONCURRENTIEL

  • 7.1 Profils d'entreprise
    • 7.1.1 KLA-Tencor Corporation
    • 7.1.2 Applied Materials Inc.
    • 7.1.3 Photronics Inc.
    • 7.1.4 Nippon Filcon Co. Ltd
    • 7.1.5 Compugraphics
    • 7.1.6 Toppan Printing Co. Ltd
    • 7.1.7 SK-Electronics Co. Ltd
    • 7.1.8 Hoya Corporation
    • 7.1.9 LG Innotek Co. Ltd
    • 7.1.10 Taiwan Mask Corporation

8. ANALYSE D'INVESTISSEMENT

9. OPPORTUNITÉS DE MARCHÉ ET TENDANCES FUTURES

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Segmentation de lindustrie des photomasques laser

Un photomasque est un outil utilisé pour la production de composants, notamment d'appareils électroniques (semi-conducteurs), d'écrans, de PCB et de MEMS. Il s'agit d'une copie maîtresse pour le modelage.

  • Appareils électroniques – Les appareils, tels que les processeurs et autres dispositifs de mémoire nécessitant des semi-conducteurs/CI, utilisent des photomasques.
  • Composants discrets avec une seule tâche – Transistors et mémoires
  • Éléments récepteurs/émetteurs de lumière - Capteurs d'image CCD/CMOS et LED
  • Dispositifs d'affichage – LCD et OLED
  • MEMS (Micro Electro Mechanical System) - Capteurs d'accélération
  • Têtes magnétiques pour disques durs, entre autres.
Par type de photomasque
Réticules
Maîtrise
Géographie
Amérique du Nord
L'Europe
Asie-Pacifique
l'Amérique latine
Moyen-Orient et Afrique
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Maîtrise
Géographie Amérique du Nord
L'Europe
Asie-Pacifique
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FAQ sur les études de marché sur les photomasques laser

Quelle est la taille actuelle du marché des photomasques laser ?

Le marché des photomasques laser devrait enregistrer un TCAC de 2 % au cours de la période de prévision (2024-2029)

Qui sont les principaux acteurs du marché des photomasques laser ?

KLA-Tencor Corporation, Applied Materials Inc., Photronics Inc., Nippon Filcon Co. Ltd, Toppan Printing Co. Ltd sont les principales sociétés opérant sur le marché des photomasques laser.

Quelle est la région qui connaît la croissance la plus rapide sur le marché des photomasques laser ?

On estime que lAsie-Pacifique connaîtra la croissance du TCAC le plus élevé au cours de la période de prévision (2024-2029).

Quelle région détient la plus grande part du marché des photomasques laser ?

En 2024, la région Asie-Pacifique représente la plus grande part de marché sur le marché des photomasques laser.

Quelles années couvre ce marché des photomasques laser ?

Le rapport couvre la taille historique du marché des photomasques laser pour les années  2019, 2020, 2021, 2022 et 2023. Le rapport prévoit également la taille du marché des photomasques laser pour les années  2024, 2025, 2026, 2027, 2028 et 2029.

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Rapport sur l'industrie des photomasques laser

Statistiques sur la part de marché, la taille et le taux de croissance des revenus des photomasques laser 2024, créées par Mordor Intelligence™ Industry Reports. Lanalyse du photomasque laser comprend des perspectives de prévision du marché jusquen 2029 et un aperçu historique. Obtenez un échantillon de cette analyse de lindustrie sous forme de rapport PDF gratuit à télécharger.

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