薄ウェーハ加工・ダイシング装置 市場規模

薄ウェーハの加工と加工ダイシング装置市場分析

薄ウェーハ処理およびダイシング装置の市場規模は、6.35%年に7億2,839万米ドルと推定され、2029年までに9億9,095万米ドルに達すると予測されており、予測期間（2024年から2029年）中に6.35％のCAGRで成長します

使用量の増加による電子部品の需要の増大により、電子パッケージングを非常にリソースに富んだものにする取り組みが増えており、電子パッケージングは​​無数の用途で有用になっています。これらの要因が半導体およびICパッケージング市場の成長を推進しています

• 今後数年間で、薄ウェーハ処理およびダイシング装置の需要が高まると予想される主な要因の 1 つは、メモリカード、スマートフォン、スマート カードなどの小型半導体デバイスに広く使用されている三次元集積回路の需要の増加です。 、およびさまざまなコンピューティング デバイス。三次元回路は、速度、耐久性、低消費電力、メモリの軽量化の点で製品の全体的なパフォーマンスを向上させるため、ポータブル家庭用電化製品、センサー、MEMS、工業製品など、スペースに制約のある複数のアプリケーションで普及しつつあります。
• 低コストのクラウド コンピューティング ソリューションの普及により、さまざまな企業や業界でサーバーおよびデータ センター システムの使用が拡大しており、マイクロプロセッサやデジタル シグナル プロセッサなどのロジック デバイスの需要が高まる可能性があります。さらに、IoT 対応のリンクされたデバイスの数が増加するにつれて、マイクロプロセッサの使用率も増加します。効果的な温度管理を可能にし、性能を向上させるために、これらのデバイスでは薄いウェーハがますます採用されています。これらすべての理由が、ロジックデバイス市場の拡大に貢献しています。
• シリコンウェーハは、マイクロエレクトロニクスおよび MEMS の製造プラットフォームとして長い間使用されてきました。シリコン オン インシュレータ基板は、標準的なシリコン ウェーハの独自のバリエーションです。これらのウェーハは、厚さ約 1 ～ 2 μm の二酸化ケイ素の接着層を使用して 2 枚のシリコンウェーハを貼り合わせて作成されます。 1枚のシリコンウェーハを10〜50μmの厚さにまで平坦化します。塗布によってコーティングの正確な厚さが決まります。
• 最先端の薄ウェーハファウンドリの建設コストは飛躍的に増加しており、業界に圧力をかけています。ここは最近、多くの半導体メーカーが統合された場所です。性能の向上は鈍化しているため、特殊な薄いウェーハがますます魅力的になっています。薄いウェーハを汎用的に使用できるようにするための設計上の決定は、一部のコンピューティング タスクにとっては最適ではない可能性があります。
• 新型コロナウイルス感染症のパンデミックによる産業および自動車エレクトロニクス分野の世界的な需要低迷により、市場に参入するメーカーは薄ウェーハ半導体の受注減少を記録している。