原子層蒸着装置 市場規模

原子層蒸着装置市場分析

原子層蒸着装置の市場規模は、17.02%年に91億7,000万米ドルと推定され、2029年までに201億4,000万米ドルに達すると予測されており、予測期間（2024年から2029年）中に17.02％のCAGRで成長します

世界的な原子層堆積市場の拡大を推進する重要な要因の 1 つは、世界中でエレクトロニクスおよび半導体ソリューションの採用が増加していることです

• 新しい材料と設計を使用してチップ生産を改善することで、原子層堆積ソリューションの需要が高まります。小型化への傾向は世界中の産業界で受け入れられています。その結果、現在、小型電子機器や機械に対するニーズが高まっています。
• Cisco によると、2030 年までに約 5,000 億台のデバイスがインターネットに接続される予定です。各マシンには、データを収集し、環境と対話し、ネットワーク経由で通信するセンサーが含まれています。これらのアプリケーションには、小型のストレージデバイスとICが必要です。接続されたデバイスの数の増加により生成されるデータ量の増加により、ストレージデバイスの需要が増加し、それが市場の成長を推進しています。
• CMOS プロセッサ、メモリ デバイス、MEMS、およびセンサーで使用される High-k 誘電体膜は、半導体業界では ALD を使用して頻繁に製造されます。燃料電池や耐腐食性や耐摩耗性が必要なその他の用途における機能性および保護コーティングの作成には、ALD 技術が使用されます。次世代デバイスの開発では、ナノワイヤやナノチューブなどの高アスペクト比構造のコーティングにも使用されます。
• 半導体の作成には、銅電極、High-K 誘電体ゲート スタック、銅バリア/シード層などのさまざまな堆積ツールが使用されます。たとえば、インドの国家投資促進局が発表したデータによると、インドの電子機器の国内生産は2014～15年の290億ドルから2020～21年の670億ドルに増加した。 2022 年 3 月に連合商工省の一部となる円滑化庁。
• さらに、ロボットの使用の拡大と製造の自動化により、半導体の売上が増加し、ALD 技術の市場が促進されると予想されます。産業オートメーションは現在、実質的にすべての重要な生産産業の性質を変えています。インダストリー 4.0 標準の採用と、データ分析のための協働ロボティクス、AR/VR、AI の使用の増加は、ALD 市場に利益をもたらすと予想されます。
• さらに、ＡＬＤ薄層は、ナノスケールトランジスタ内の隣接するコンポーネントを電気的にシールドするためにマイクロエレクトロニクスにおいて利用され得る。 ALD は、複雑な 3D 表面上に正確なナノスケールのコーティングを作成することに特に優れています。たとえば、現代のコンピュータプロセッサを製造するために使用されるシリコンウェーハにエッチングされた深くて狭いトレンチです。これは、世界中の研究者に、今後の半導体デバイス世代向けの新しい薄膜 ALD 材料を作成するよう促すきっかけとなりました。
• 予測期間中、研究開発に必要な多額の投資が世界の原子層堆積市場の成長を抑制すると予想されます。 ALD はアプローチが遅いため、重大な制限があることが認識されています。
• 原子層堆積業界のサプライチェーンは、新型コロナウイルス感染症（COVID-19）の流行により依然として打撃を受けている。新型コロナウイルス感染症は多くの国に大きな影響を与えています。労働力不足と原材料供給の混乱により、パンデミックにより原子層堆積材料の生産が妨げられています。こうした国際貿易の混乱により、進行中のプロジェクトの開発が遅れ、資本支出（CAPEX）が増加し、原子層堆積の供給が停止されました。