Équipement de gravure au plasma Taille du Marché

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Taille du Marché de Équipement de gravure au plasma Industrie

Taille du marché des équipements de gravure au plasma
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Période d'étude 2019 - 2029
Année de Base Pour l'Estimation 2023
TCAC Equal-7.8
Marché à la Croissance la Plus Rapide Asie-Pacifique
Plus Grand Marché Asie-Pacifique
Concentration du marché Moyen

Principaux acteurs

Marché des équipements de gravure au plasma

*Avis de non-responsabilité : les principaux acteurs sont triés sans ordre particulier

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Analyse du marché des équipements de gravure au plasma

Le marché des équipements de gravure au plasma devrait enregistrer un TCAC de 7,8 % au cours de la période de prévision. La demande déquipements de gravure au plasma devrait être stimulée par limportance croissante de la technologie de gravure et des équipements associés, avec lutilisation de processus de gravure pour obtenir des dimensions encore plus petites au cours de la période de prévision. La gravure au plasma a permis diverses modifications pour répondre aux exigences strictes des processus de miniaturisation dans l'industrie microélectronique

  • La gravure au plasma est une technologie sophistiquée et polyvalente qui permet de créer une large gamme de dispositifs. Aujourd'hui, les fabricants de semi-conducteurs abandonnent la gravure humide traditionnelle au système de gravure au plasma, car il consomme moins de produits chimiques et est plus adapté à l'automatisation et à la fabrication de tranches uniques. La demande croissante de dispositifs électroniques compacts et économes en énergie ayant des performances améliorées renforce le besoin de développer des circuits intégrés (CI) à semi-conducteurs miniatures. Pour miniaturiser les circuits intégrés, le cours doit subir un processus avancé de fabrication de circuits avec de petites géométries et nécessite donc un transfert de motif précis.
  • La gravure au plasma est largement utilisée dans les industries des semi-conducteurs et des systèmes microélectromécaniques. Par exemple, dans la fabrication de cartes de circuits imprimés (PCB), la gravure isotrope est utilisée pour nettoyer les circuits au plasma après l'usinage et avant la galvanoplastie. La gravure anisotrope est utilisée pour former des motifs de circuits dans des tranches. Cette gravure plasma anisotrope est très énergétique et est appelée gravure ionique réactive (RIE).
  • En outre, la mise à niveau technologique massive en cours dans lapplication IoT pour offrir des appareils intelligents technologiquement avancés à différents consommateurs à travers le monde devrait également accélérer la demande de semi-conducteurs avancés, affectant ainsi positivement la croissance du marché. Avec la croissance des applications IoT, les appareils intelligents se multiplient, donnant naissance à des semi-conducteurs miniatures, augmentant ainsi la demande de gravure plasma.
  • Les smartphones et autres applications nécessitant des circuits intégrés à semi-conducteurs sont d'autres facteurs à l'origine de la demande globale de gravure plasma dans les secteurs de l'électronique grand public, de l'automobile et d'autres secteurs, car les progrès technologiques tels que les technologies sans fil (5G) et l'intelligence artificielle ont eu un impact significatif sur la tendance de ces secteurs. En outre, le nombre croissant dappareils Internet des objets (IoT) devrait obliger lindustrie des semi-conducteurs à investir dans ces équipements pour obtenir des produits intelligents. Le SEMI Silicon Manufacturers Group (SMG) a révélé dans son examen trimestriel de l'industrie des plaquettes de silicium que les expéditions mondiales de plaquettes de silicium ont augmenté de 3,3 % pour atteindre 3 649 millions de pouces carrés au troisième trimestre 2021, ce qui constitue un nouveau record pour l'industrie. Les expéditions de plaquettes de silicium au troisième trimestre 2021 ont augmenté de 16,4 % par rapport au même trimestre de l'année précédente, pour atteindre 3 135 millions de pouces carrés.
  • Cependant, cet équipement est souvent plus coûteux que léquipement de gravure chimique par voie humide. De plus, en raison de la consommation plus rapide des réserves due à la gravure chimique humide, la sélectivité offerte par cet équipement est réduite par rapport à l'équipement de gravure chimique humide. Ce sont quelques-uns des principaux facteurs qui entravent la croissance du marché.
  • La pandémie de COVID-19 a interrompu la fabrication de plusieurs articles dans le secteur des équipements de production de semi-conducteurs, en raison du confinement continu dans la plupart des régions du monde. Les mesures de confinement ont réduit la demande de gadgets électroniques grand public, ce qui a eu un impact mondial sur le secteur des semi-conducteurs. La baisse continue de la demande mondiale et des exportations d'automobiles a eu un impact négatif sur le marché des semi-conducteurs, qui ralentit actuellement la demande d'équipements de fabrication de semi-conducteurs. Cependant, la demande devrait progressivement gagner du terrain avec le retour des activités industrielles au niveau davant la pandémie.

Analyse de la taille et de la part du marché des équipements de gravure au plasma – Tendances de croissance et prévisions (2024-2029)