レーザーフォトマスク 市場規模

レーザーフォトマスク市場分析

レーザーフォトマスク市場は、予測期間（2021-2026年）にCAGR 2％超を記録すると予測されている。フォトマスクは、不透明、透明、位相シフト領域のパターンで覆われた石英板であり、リソグラフィ工程でウェハ上に投影され、集積回路の1層のレイアウトを定義する

• トランジスタが小型化するにつれて、パターンを正確にシリコンウェーハに転写するために、フォトマスクはより複雑になってきた。フォトマスクのわずかな欠陥がシリコン・デバイスの性能に影響を与える可能性があるため、フォトマスクの作成プロセスもそれに応じて高度化している。
• フォトマスク・パターンに欠陥がないことを確認することは、特に高収益チップの場合、非常に重要である。各チップは半導体リソグラフィプロセスの最終製品であり、光源によって実現される光リソグラフィが不可欠な部分である。これらのフォトマスクに使用される光源は、深紫外（DUV）光源と極端紫外（EUV）光源である。
• ビッグデータ解析や人工知能、無人運転車の実用化など、半導体のさらなる高性能化が求められる中、EUV露光は次世代の半導体製造技術として注目を集めている。この流れは、効果的なフォトマスクの製造を大きく後押ししている。トッパンは2016年、最先端半導体向けの次世代EUVフォトマスクを開発。EUV露光時の周辺部への不要な光の反射を最小限に抑え、次世代の半導体製造技術として注目されています。